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美國Virtual VVSW-NC-MW8晶圓吸筆套件含8寸吸盤接廠務氮氣壓縮空氣

VIRTUAL STEALTH-WAND? ELITE VVSW-NC-MW8八寸晶圓吸筆套件可接在30~50psi真空度的壓縮空氣或氮氣下運行,常閉設置當按住按鈕時才會接通以節省氣源,可以通過調節輸入壓力來控制真空度,非常適合在工廠車間環境處理薄晶圓Wafers,吸筆頭可更換成4、6、8及12寸PEEK防靜電吸盤。

晶圓真空吸筆品牌:美國Virtual
美國Virtual

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  • 美國VirtualWafer晶圓吸筆VVSW-NC-MW8
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VVSW-NC-MW8圖片

  • VVSW-NC-MW8
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美國Virtual VVSW-NC-MW8 晶圓真空吸筆規格參數與圖片

美國Virtual STEALTH-WAND(常開型VVSW-NO)和STEALTH-WAND™ ELITE(常閉型VVSW-NC)真空晶圓吸筆套件用于連接廠務壓縮空氣或氮氣氣源系統,通過氣管連接VACUUM PEN真空吸筆桿,筆桿前端插入防靜電PEEK吸筆頭,應對各種厚度規格及尺寸的Wafer晶圓硅片、太陽能電池片等平面物體吸取轉移操作,可以通過調節輸入壓力來控制真空度。Virtual VVSW-NC-MW8晶圓吸筆套件隨附:常閉型真空筆桿手柄、VMWT-C八寸晶圓吸筆頭、VBM-4吸筆支架、6尺長1/16英寸空氣軟管、1/8 NPT至1/16“螺紋適配器用于連接外部氣源,將方形吸頭垂直接觸晶片,然后按住按鈕并保持即可接通真空系統吸住物體,將晶圓片移至所需位置釋放控制按鈕以釋放。

 

VIRTUAL VVSW-NC STEALTH-WAND™ ELITE常閉型壓縮空氣晶圓吸筆套件

STEALTH-WAND™ELITE VVSW-NC常閉型晶圓真空吸筆直接在30至50 psi的壓縮空氣或氮氣下運行。ESD防靜電常閉設置的STEALTH-VAC™Elite吸筆桿VACUUM PEN™包含一個耳語安靜的低噪音Venturi文丘里效應真空發生器,僅在按下控制按鈕時才會激活,不使用時為斷開狀態,這有助于節省工廠壓縮空氣。可以通過調節輸入壓力來控制真空度,這個功能對于處理薄晶圓很重要:

輸入50 psi時,真空水平為21 InHg,自由空氣流量為2 lpm

輸入30 psi時,真空度為18 InHg,自由空氣流量為1.75 lpm

輸入10 psi時,真空度為3 InHg,壓力為0.75 lpm自由氣流

 

美國Virtual VVSW-NC廠務氣源晶圓吸筆套件訂貨信息(接壓縮空氣氮氣)

STEALTH-WAND™ ELITE真空常閉型VVSW-NC系列:

連接30至50 psi的廠務壓縮空氣或氮氣,通過調節輸入壓力控制真空度,按住按鈕并維持接通狀態,松開按鈕釋放晶圓

VVSW-NC-MW4四寸晶圓吸筆套件:STEALTH-WAND™ ELITE Kit With (VMWT-A) Wafer Tip

VVSW-NC-MW6六寸晶圓吸筆套件:STEALTH-WAND™ ELITE Kit With (VMWT-B) Wafer Tip

VVSW-NC-MW8八寸晶圓吸筆套件 常閉型:STEALTH-WAND™ ELITE Kit With (VMWT-C吸筆頭) Wafer Tip

VVSW-NC-MW12 12寸晶圓吸筆套件:STEALTH-WAND™ ELITE Kit With (VMWT-D) Wafer Tip

以上套件均包含筆桿、吸筆頭、2米氣管及筆座支架;VVSW-NO-X單獨筆桿:STEALTH-WAND™ Handle Only

 另有STEALTH-WAND常開型VVSW-NO系列:

連接30至70 psi的廠務壓縮空氣或氮氣,真空常開接通氣源,不操作按鈕即可吸取并保持,按下按鈕釋放

在70 psi輸入下,真空水平為20 InHg,自由空氣流量為4 lpm

在30 psi輸入下,真空水平為10 InHg,自由空氣流量為3 lpm

在10 psi輸入下,真空水平為2 InHg,自由氣流為1 lpm

VVSW-NO-MW8八寸真空晶圓吸筆 常開型, STEALTH-WAND™ Kit With (VMWT-C吸筆頭) Wafer Tip

VVSW-NO-MW4常閉型晶圓吸筆4寸、VVSW-NO-MW6晶圓吸筆6寸、VVSW-NO-MW12晶圓吸筆12寸

VVSW-NO-X常開型真空筆桿STEALTH-WAND™ Handle Only

美國VirtualWafer晶圓吸筆
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